最近几年，我国半导体产业发展迅速，无论是工艺水准还是量产能力，都有显著提升。这也拉动了半导体上游材料需求的增长，光刻胶便是其中之一。根据智研咨询公布的数据，最近三年，中国光刻胶市场每年增速都在15%到25%之间，并且继续呈上升趋势。

　　不过，国内厂商并没有能力完全消化这一市场。目前，光刻胶行业几乎被美日企业垄断，中国虽然也有生产光刻胶的公司，但因为产品质量相对差，因此只占据着10%左右的市场份额。

　　而且，目前国内企业生产的光刻胶大部分为低端光刻胶，中国产业信息网数据显示，真正技术难度高的半导体光刻胶仅占国内光刻胶总量的2%。

　　光刻胶产品的短缺，对于中国半导体产业而言，是个不小的隐患。虽然目前并没有厂商拒绝向中国出售光刻胶，但为防范于未然，不少中国公司都奋斗在光刻胶研发一线。

　　其中最具代表性的企业当属晶瑞股份，作为中国光刻胶龙头，晶瑞股份为打破美日垄断，研发出高端半导体光刻胶，2020年更是斥资7500万斥购买了一台ASML光刻机。

　　根据官方信息，1月19日，晶瑞股份购买的光刻机已经进入苏州实验室。该光刻机可生产28nm芯片，借助该设备帮助，最高分辨率达28nm的高端光刻胶或将在不久后诞生。

　　其实，很多人都小看了光刻胶在芯片生产过程中的作用，大家都知道，我国芯片制程工艺之所以没有突破7nm 大关，很大一部分原因是缺少EUV光刻机。

　　但高端芯片而言，高端光刻胶也是不可或缺的一个关键环节，。光刻胶如果不能及时升级，那么高端光刻机也就失去了意义。目前，ASML公司已经完成1nm光刻机设计，但如果没有应用于1nm芯片的光刻胶，即便荷兰ASML造出1nm光刻机，台积电、三星等厂商也难以制造出1nm芯片。

　　根据科技媒体Deep Tech报道，业界普遍认为，光刻胶将会是阻碍芯片制程工艺升级的最大障碍。上述种种信息，其实都在一定程度上说明了光刻胶对于芯片产业的重要性。晶瑞率先进入高端光刻胶市场研发国产光刻胶。既是在补齐我国芯片产业短板，也是为我国半导体产业提前前路。

　　你认为我国企业能够在光刻胶领域打破海外厂商垄断吗？