10月12日晚间，苏大维格披露深交所下发的关注函。针对其在互动易平台对投资者提问有关“光刻机”相关回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述的行为启动纪律处分程序。

模糊用词引发当日涨停

根据深交所下发的关注函显示，苏大维格在互动易平台对投资者提问的有关“光刻机”相关回复受到媒体和投资者广泛质疑，并引起股价大幅波动，涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述，市场影响恶劣，交易所将对苏大维格及相关违规当事人启动纪律处分程序。

9月14日午间，苏大维格在投资者互动平台中对光刻机出货的描述“光刻机已向国内龙头芯片企业销售。”，引发了市场的强烈关注，当日股价涨停20%，成交金额高达15亿元。次日，深交所随即下发关注函。

事实上，苏大维格方面在回复中未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，也未详细说明公司光刻设备的具体类型、主要的应用领域、与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息；同时，也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。

此前，苏大维格2023半年报中也曾提及，“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”。其与在投资互动平台所回复整体内容表述类似，但是“光刻设备”一词变为“光刻机”。

随后，在10月8日，苏大维格回复深交所关注函时表示：“一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。”

资料显示，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中，直写光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺，后道先进封装，以及中高世代线的FPD生产。目前，掩模光刻技术主要由ASML等海外厂商掌握，而直写光刻在国内还有芯碁微装等多家公司突破。