到了80年代，ASML诞生了。据说过的人都知道，ASML是今朝行业最为顶端的半导体产商之一，任何高端芯片的产都离不开它的光刻机。而我们当然也在赓续提高，但始终达不到它的妙技水平。

到了90年代，我们的光刻机就始终被卡在193纳米长达20年，亏得2002年被台积电的林本坚博士攻破，提出了浸入式193纳米规划，得到告捷。

 

 

不过仍旧受限于妙技，咱们照样后进了ASML20多年，要知道，这个时分的ASML也曾初阶进行EUV光刻机的研发了，况且于2010年研收回第一台EUV原型机。

跟交涉好了似的，这个期间的半导体财富劈脸了大力发展，中国芯片也劈头在2016年量产90纳米、110纳米和280纳米三种光刻机。

 

 

直到当初，咱们能真正完成量产的最后裔光刻机的制程，也照常90纳米。与同期的ASML比拟，咱们的不同还好坏常大。

不外，目下当今好信息终究来了，中科院院长曾经在今天不日正式宣布：面对美国对中国高科技财产的打压，将美国"恰谈"的清单变为科研工作清单进行布局，比喻航空轮胎、轴承钢、光刻机与一些枢纽手艺、枢纽原质料等。

没错，在经历了这么多之后，咱们的科研人员后果要对光刻机入手了，即使还需要一段年华来持续积淀，但我置信在中国科研职员的不时奋力下，咱们隔绝距离来到美国技艺的那一天，必定不会远了。