光刻机实现突破？今日，苏大维格(300331.SZ)一则自称“已实现光刻机销售”的互动平台回复引爆市场，公司股价午后短时间内蹿升至涨停。不过，多位业内受访人士均表示，此光刻非彼光刻。一直以来，苏大维格主要生产的是激光直写光刻机，而非制造芯片用的掩膜光刻机。

苏大维格今天下午在投资者平台表示：“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”该消息发出后，不少投资者直呼苏大维格是“国产之光”，市场情绪激烈。

不过，受访的多位业内人士均表示，苏大维格生产的光刻机并非大众所理解的芯片制造用光刻机。

CINNO Research研究总监刘雨实向记者介绍，“苏大维格的光刻机是指激光直写光刻机，与传统掩膜光刻相比，激光直写精度较差但成本也较低，多用于封装等领域，具有较高的灵活性。”

苏大维格半年度财报显示，公司的高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等，并未提及芯片生产用的掩模光刻产品。

据中航证券研报，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中，直写光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺，后道先进封装，以及中高世代线的FPD生产。目前，掩模光刻技术主要由ASML等海外厂商掌握，而直写光刻在国内还有芯碁微装(688630.SH)等多家公司突破。

记者留意到，苏大维格2023半年报中曾提及，“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”，与今天在投资者平台的回复内容类似。不过，今天公司在互动平台的表述，“光刻设备”一词变成了“光刻机”，引发市场遐想。